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早在今年初，富士通就宣布已经掌握了一项关键技术，可以在不久的将来把桌面硬盘和笔记本硬盘的容量分别提升到5TB和1.5TB。
现在，这项技术已经趋于成熟，富士通的计划是最早在2010年推出1.2TB容量的双碟装笔记本硬盘。
富士通声称已经制造出了理想、整齐的纳米孔氧化铝膜，并演示了新材料基本的读写操作能力，从而为实现晶格介质存储和更大的硬盘容量奠定了坚实的基础。
富士通的纳米孔氧化铝膜介质也是通过垂直记录技术实现的，涉及纳米压引光刻、阳极氧化、钴电沉积等尖端技术，纳米孔垂直间隙约100纳米，适合现有的磁头技术。
与垂直记录技术类似，富士通的新方法不会改变硬盘的基本模式，只是在技术细节上进行更新，外观看起来仍是由旋转的碟片和飞行的磁头组成。
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