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INTEL 0.13微米制造工艺取得成功


http://www.enorth.com.cn  2001-04-06 00:00

  英特尔公司在本周一(4月2日)宣布,它已经成功制造出0.13微米的300毫米硅晶圆。芯片是在硅晶圆上生产出来的,因此,更大尺寸的硅晶圆意味着可以生产出数量更多的芯片。目前,英特尔使用的是200毫米的硅晶圆。英特尔的一位发言人表示,从一片硅晶圆上生产出更多的芯片,就表明芯片的价格将进一步下降,而产量将进一步提升。据这位发言人称,用来生产300毫米硅晶圆的0.13微米技术,将在明年年初用于英特尔的生产线。他还表示,使用尺寸更小的制造技术,也将使芯片变得更快、更便宜和更可靠。英特尔的这位发言人指出,使用0.25微米技术的奔腾III,运行速度大约为600MHz。使用0.18微米技术的奔腾4,目前的运行速度为1.5GHz,并将在年底达到2GHz。而使用0.13微米技术的芯片,将以铜导线代替铝导线,运行速度在今后一,两年内可达3―4GHz。

  

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